標準簡介：本標準規(guī)定了硅和外延片表面Na、Al、K 和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法。本標準適用于用二次離子質(zhì)譜法(SIMS)檢測鏡面拋光單晶硅片和外延片表面的Na、Al、K 和Fe每種金屬總量。本標準測試的是每種金屬的總量,因此該方法與各金屬的化學和電學特性無關。本標準適用于所有摻雜種類和摻雜濃度的硅片。本標準特別適用于位于晶片表面約5nm 深度內(nèi)的表面金屬沾污的測試。本標準適用于面密度范圍在(109~1014)atoms/cm2 的Na、Al、K 和Fe的測試。本方法的檢測限取決于空白值或計數(shù)率極限,因儀器的不同而不同。

標準號：GB/T 24575-2009

標準名稱：硅和外延片表面Na、Al、K和Fe的二次離子質(zhì)譜檢測方法

英文名稱：Test method for measuring surface sodium,aluminum,potassium,and iron on silicon and epi substrates by secondary ion mass spectrometry

標準類型：國家標準

標準性質(zhì)：推薦性

標準狀態(tài)：現(xiàn)行

發(fā)布日期：2009-10-30

實施日期：2010-06-01

中國標準分類號（CCS）：冶金>>半金屬與半導體材料>>H80半金屬與半導體材料綜合

國際標準分類號（ICS）：電氣工程>>29.045半導體材料

起草單位：信息產(chǎn)業(yè)部專用材料質(zhì)量監(jiān)督檢驗中心、中國電子科技集團公司第四十六研究所

歸口單位：全國半導體設備和材料標準化技術委員會材料分技術委員會

發(fā)布單位：國家質(zhì)量監(jiān)督檢驗檢疫.