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GB/T39145-2020硅片表面金屬元素含量的測定電感耦合等離子體質(zhì)譜法

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標(biāo)準(zhǔn)簡介:本標(biāo)準(zhǔn)規(guī)定了電感耦合等離子體質(zhì)譜法(ICP-MS)測定硅片表面金屬元素含量的方法。本標(biāo)準(zhǔn)適用于硅單晶拋光片和硅外延片表面痕量金屬鈉、鎂、鋁、鉀、鈣、鉻、錳、鐵、鈷、鎳、銅、鋅元素含量的測定,測定范圍為108 cm-2~1013cm-2。本標(biāo)準(zhǔn)同時也適用于硅退火片、硅擴(kuò)散片等無圖形硅片表面痕量金屬元素含量的測定。

標(biāo)準(zhǔn)號:GB/T 39145-2020

標(biāo)準(zhǔn)名稱:硅片表面金屬元素含量的測定 電感耦合等離子體質(zhì)譜法

英文名稱:Test method for the content of surface metal elements on silicon wafers—Inductively coupled plasma mass spectrometry

標(biāo)準(zhǔn)類型:國家標(biāo)準(zhǔn)

標(biāo)準(zhǔn)性質(zhì):推薦性

標(biāo)準(zhǔn)狀態(tài):現(xiàn)行

發(fā)布日期:2020-10-11

實(shí)施日期:2021-09-01

中國標(biāo)準(zhǔn)分類號(CCS):冶金>>金屬化學(xué)分析方法>>H17半金屬及半導(dǎo)體材料分析方法

國際標(biāo)準(zhǔn)分類號(ICS):冶金>>77.040金屬材料試驗(yàn)

起草單位:南京國盛電子有限公司、有研半導(dǎo)體材料有限公司、浙江金瑞泓科技股份有限公司、上海合晶硅材料有限公司、有色金屬技術(shù)經(jīng)濟(jì)研究院、無錫華瑛微電子技術(shù)有限公司、龍騰半導(dǎo)體有限公司、廈門科鑫電子有限公司

歸口單位:全國半導(dǎo)體設(shè)備和材料標(biāo)準(zhǔn)化技術(shù)委員會(SAC/TC 203)、全

發(fā)布單位:國家市場監(jiān)督管理總局.

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